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采用O2探頭和Lambda探頭進行碳勢控製的原理和各自優(you) 勢之比較
前言
氣體(ti) 滲碳在熱處理中仍然起著重要作用。氣氛的溫度和碳勢(C-Potential)是工藝控製的zui重要的參數。時至今日仍然沒有直接測量碳勢的方法能夠用於(yu) 在線工藝控製。爐內(nei) 氣氛的氧分壓測量是碳勢控製zui常用的間接方法。氧探頭有不同的類型。在這篇文章中我們(men) 將著重討論氧探頭構造上的區別以及各自的優(you) 點和缺點。
目前,滲碳工藝已為(wei) 人熟知。除溫度以外zui重要的參數就是碳勢。爐內(nei) 氣氛的碳勢即非合金奧氏體(ti) 的碳含量(以重量百分比表示),該碳含量與(yu) 相應氣氛保持均衡。比如氣氛碳勢為(wei) 0.7%,那麽(me) 奧氏體(ti) 的碳含量即為(wei) 0.7%。如果奧氏體(ti) 碳含量高於(yu) 0.7%,那麽(me) 就應該進行脫碳直至其碳含量降為(wei) 0.7%,反之,如果奧氏體(ti) 碳含量低於(yu) 0.7%,則應該進行滲碳直至其碳含量達到0.7%。另外,溫度也是決(jue) 定特定氣氛碳勢的重要因素。為(wei) 了得到工件表麵的準確滲碳深度,在熱處理工藝中必須對爐內(nei) 氣氛碳勢進行測量和控製。
碳勢間接測量
一般來說,碳勢可以直接測量也可以間接測量。但是直接測量方法不適用於(yu) 碳勢連續測量及控製。不過,在必要的時候,可以使用直接測量對間接測量結果進行檢測和修正。
下述公式就是碳勢間接測量的原理:
這些化學反應既可在爐內(nei) 氣氛中發生,也可在工件表麵發生。化學反應之後,CO釋放出C,而O2, CO2 和 H2O吸收C。如果氣氛碳勢高於(yu) 工件表麵碳含量,CO將C轉移到工件表麵,而O2, CO2 和 H2O吸收氣氛中的C。如果氣氛碳勢低於(yu) 工件表麵碳含量,CO將C轉移到氣氛中,而O2, CO2 和 H2O吸收工件中的C。在這兩(liang) 種情況下,這些化學反應都會(hui) 導致工件表麵碳含量和氣氛碳勢之間的均衡。
這些化學反應活動對於(yu) 計算碳勢也是相當重要的。它取決(jue) 於(yu) 溫度以及溶入奧氏體(ti) 的碳含量。在給定溫度值的前提下,每個(ge) 碳勢都相當於(yu) 化學反應活動的特定值ac(% C,T)。下列方程式表示了化學反應活動之間的。
KO2, KCO2 和 KH2O常數是溫度函數。因此如要計算碳勢,隻需對上述三個(ge) 方程式中的溫度和分壓進行測量。在特定氣氛中,比如吸熱式氣氛(endogas),或者氮甲醇氣氛,p(CO) 和p(H2)的分壓遠遠高於(yu) p(O2), p(CO2) 和p(H2O)的分壓。當碳勢改變的時候,p(CO) 和p(H2)分壓的百分比變化相對於(yu) p(O2), p(CO2) 和p(H2O)的百分比變化來說是微不足道的。這就是為(wei) 什麽(me) 在大多數情況下,對碳勢進行計算和控製都隻是把p(CO) 和p(H2)分壓視為(wei) 常數,而隻對O2, CO2 or H2O的分壓和體(ti) 積含量進行測量。
連續測量對於(yu) 過程控製是至關(guan) 重要的。市場上現有的露點傳(chuan) 感器可用於(yu) 水份分壓連續測定,但不足以在滲碳氣氛中進行測量。CO2的測量是通過紅外傳(chuan) 感器連續進行的,這一測量常用於(yu) 比較結果。與(yu) O2測量相比,CO2測量過程明顯緩慢。此外,由於(yu) 零點漂移的作用,二氧化碳傳(chuan) 感器通常需要更高的維修要求。因此,如果使用將CO2測量應用於(yu) 碳勢控製,那麽(me) 就必須每天進行零點校正。這是為(wei) 什麽(me) 越來越多的用戶使用氧探頭進行氧分壓測量來控製碳勢的主要原因。
氧探頭的結構和功能
圖1顯示了氧探頭的主要構造。氧探頭的測量單元是有一個(ge) 一邊封閉的陶瓷探頭組成的。材質是散布氧化釔顆粒的氧化鋯。這些有意而為(wei) 之的晶格缺陷可以激活氧離子熱傳(chuan) 導性。此外,這種晶格缺陷也可以使陶瓷在熱應力和機械應力下保持穩定。陶瓷內(nei) 外都與(yu) 鉑金屬連接。這些就是測量元件的電極。探頭內(nei) 部提供參比氣體(ti) ,大部分是含20,9% 氧氣的空氣。探頭外部與(yu) 爐內(nei) 氣氛直接接觸。由於(yu) 氧離子活性是由溫度決(jue) 定的,因此氧探頭僅(jin) 適用於(yu) 在700°C以上的爐內(nei) 氣氛中進行測量。在鉑電極內(nei) 氧氣減少為(wei) 氧離子。這些氧離子通過陶瓷缺陷遊離到外部電極,從(cong) 而彌補外部較低的氧濃度。根據能斯特方程,電壓是電荷積累的結果,而電壓是可以在電極之間測到的。當測量氣氛中的氧含量減少,那麽(me) 電壓上升。在滲碳工藝中,這意味著電壓與(yu) 碳勢是成正比的。電壓高,則碳勢高;電壓低,則碳勢低。在目前的市場上,主要有三種不同類型的氧探頭。如圖2所示:
圖2
*種是一邊封閉的氧化鋯元件,被粘合或者焊接至氧化鋁陶瓷管。工作原理如上所述,內(nei) 部是參比氣體(ti) ,外部是爐內(nei) 氣氛,氧離子通過陶瓷遊移。
第二種有一個(ge) 氧化鋯球體(ti)
第三種是一種連續的,封閉的,密實的氧化鋯管。
用氧化鋯元素或氧化鋯球體(ti) 的探頭大多比連續氧化鋯管的探頭便宜,但這些探頭密閉性很低。這是由於(yu) 兩(liang) 種不同陶瓷的擴展係數不同而導致的結果。由於(yu) 擴展係數存在差異,兩(liang) 個(ge) 陶瓷的接觸點會(hui) 出現極細微的裂痕。爐內(nei) 氣體(ti) 可以通過這些細微裂痕進入陶瓷探頭並且改變裏麵的參比空氣。如果探頭電壓下降,那麽(me) 計算出來的碳勢比爐內(nei) 碳勢的實際值要低。增加參比空氣的流速可以將這些誤差減小到zui低。
通過氧氣測量及化學平衡方程來計算碳勢,溫度是是相當重要的,表現在兩(liang) 個(ge) 方麵:
首先,需要知道溫度才能測定氧含量(見下述公式(7))。
其次,需要知道溫度才能確定計算碳勢的化學平衡條件(見下述公式(4))。
因此,在爐內(nei) 氣氛中的探頭溫度通常是通過探頭內(nei) 部的熱電偶測得的。
一般我們(men) 推薦帶S型熱電偶的探頭或者不帶熱電偶的探頭。在這種情況下,裝在探頭附近的爐內(nei) 熱電偶可以用來計算碳勢。如果裝K型熱電偶,(主要是與(yu) 氧化鋯元素或氧化鋯球體(ti) 類型),探頭成本會(hui) 較低。其陶瓷設計使其可以使用較細的熱電偶。但由於(yu) 陶瓷裂縫的原因,熱電偶可以接觸到爐內(nei) 氣氛。從(cong) 而使精度降低,使用壽命縮短。因此,K型熱電偶探頭隻在特殊情況下才會(hui) 建議使用。
氧探頭測量的不確定性
在此領域內(nei) 使用氧探頭需注意以下幾點:
1)此種氧探頭直接受到機械應力和熱應力的作用。由於(yu) 陶瓷易碎,因此探頭也會(hui) 相應受到損害。特別是循環風機不平衡會(hui) 降低探頭的使用壽命。因此,應避免將探頭安裝在這些設備附近。此外,由於(yu) 導熱度高,在處理過程中更換氧探頭需要相當長的時間。
2)氧探頭陶瓷中的氣孔和裂痕增加會(hui) 導致參比氣體(ti) 流速增加。因此,如上所述,探頭電壓有可能不是真實數值,除此之外,氧探頭熱電偶的溫度值也有可能出現不真實的情況。
3)清洗劑殘留以及封膠會(hui) 隨著探頭進入爐內(nei) 。這些化學物質在爐內(nei) 蒸發之後會(hui) 沉澱在外部鉑電極。這會(hui) 導致測量結果不準確並且會(hui) 縮短探頭的使用壽命。為(wei) 了將這些清洗劑和封膠的殘留物從(cong) 探頭元件上清除,必須對探頭進行清洗。還有一個(ge) 很重要的問題是外電極被煤煙汙染,尤其是當處理工藝被控製在煤煙極限的時候。電極的熏染同樣導致測量結果不真實不準確。產(chan) 生了一個(ge) 偽(wei) 造的測量了。在這種情況下,隻能用空氣對探頭進行循環吹掃。注意!空氣吹掃的閥門必須安裝在探頭附近。如果使用長管會(hui) 在吹掃之後產(chan) 生很長的停留時間。另外,該閥必須關(guan) 閉好,不應堵塞。
4)如果溫度高於(yu) 1100 ° C,氧化鋯裏麵的電子傳(chuan) 導越來越高,不能再忽略不計[2] [3]。隻有當電子傳(chuan) 導效應得到補償(chang) 的情況下,才能使用氧探頭對高溫脫碳工藝(例如鑄鐵脫碳)進行控製。
5)如果使用鉻鎳鋼作為(wei) 保護管,那麽(me) 可以在顯微鏡下檢測到,靠近氧化鋯頂端的鉻部件很快就在爐內(nei) 熔解消失。煤煙顆粒和氧氣吸附在氣孔表麵。探頭表麵的煙灰會(hui) 導致錯誤的測量結果,並使探頭的反應時間以及吹掃之後的弛豫時間都被延長。
Lambda探頭的構造和功能。
基於(yu) 上述問題,我們(men) 嚐試在爐外放置一個(ge) 相對較小的測氧元件。
將氧傳(chuan) 導的固體(ti) 電解質比如氧化鋯陶瓷,用於(yu) 汽車工業(ye) 的燃燒控製,可使氧探頭體(ti) 積變小,我們(men) 這裏稱之為(wei) Lambda探頭(以下稱:L-probe)。如圖3所示。
圖3
由於(yu) 現在已經可以批量生產(chan) ,因此用戶可以以較低成本擁有堅固耐用的傳(chuan) 感器。Lambda探頭和氧探頭的功能基本相同。不過,本質區別在於(yu) 其結構和測量設定。L-probe的類型也是由一端封閉的管構成的,陶瓷也與(yu) 氧探頭相同。探頭陶瓷的內(nei) 外表麵都覆蓋有微氣孔鉑層。這兩(liang) 個(ge) 鉑層就是測量元件的電極。外部鉑層由高度氣滲型陶瓷層保護。為(wei) 了使氧離子通過陶瓷遊移,L-probe內(nei) 部有一個(ge) 鎳加熱元件可以將陶瓷加熱。由於(yu) PTC特性,探頭可以被快速加熱。
Lambda探頭的特性
操作Lambda探頭的時候有幾點需要注意。使用Lamda探頭在空氣中測量的時候,顯示電壓不是0mV,而是-8…-15mV。這是因為(wei) 熱電偶的作用。由於(yu) 加熱元件的細微差異,每個(ge) Lambda探頭所受到的加熱是不同的。加熱探頭的時候,供電電壓為(wei) 12V,陶瓷溫度大約在500…600°C之間。為(wei) 了保證得到的測氧結果,以及基於(yu) 此結果進行的碳勢計算,必須考慮到上述因素的影響。
圖5。在工藝條件改變的情況下,Lambda探頭的溫度變化曲線。紫色線表示溫度受控的Lambda探頭,藍色線表示溫度不受控的lamdba探頭。
為(wei) 使計算準確,對Lamdba探頭的陶瓷溫度進行控製是非常重要的。因此必須消除不同幹擾,比如流量、環境溫度或氣體(ti) 組分的改變。圖5顯示了在工藝條件同等變化的情況下,Lambda探頭分別在受控和不受控時的溫度曲線。在此測試中,如果Lambda探頭不受控,那麽(me) 氣體(ti) 組分和流量變化會(hui) 導致大約40°C的溫度變化。相反,受控的探頭溫度幾乎沒有什麽(me) 改變,並且在很短的時間內(nei) 就能對初始值作出調整。
因此MESA公司專(zhuan) 門設計製造了新款電源NTV44P(圖6),用於(yu) 控製Lamdba探頭陶瓷溫度使其保持在穩定值。使用該電源,即使氣體(ti) 流速高於(yu) 50l/h也沒有問題。因此,停滯時間(爐內(nei) 氣體(ti) 通過探頭所需的時間)可以大大縮短。對於(yu) 標長720mm的取樣管來說,如果氣體(ti) 流速約20l/h,那麽(me) 停滯時間為(wei) 17秒。如果氣體(ti) 流速為(wei) 60l/h,那麽(me) 停滯時間可以縮短至6秒以下。另外,如果探頭陶瓷溫度受控,而不是使用常壓對探頭加熱的方式,那麽(me) 可以更快達到工作溫度。
圖6.電源NTV44P
還應指出,對於(yu) 爐內(nei) 確定的氧分壓來說,氧探頭和Lambda探頭給出的電壓信號是不同的。要使用L-probe控製碳勢,可以采用控製器(圖7)通過L-probe電壓及其校正因素來對碳勢進行計算和控製,也可以采用測量變送器(如圖8所示)進行相同計算或者將L-probe信號轉換成氧探頭信號。NTV44P的其中一個(ge) 功能就是就是將L-probe信號轉換為(wei) O2-probe信號。
圖7:碳控儀(yi)
圖8:用於(yu) Lambda探頭的測量變送器
帶Lambda探頭的氣體(ti) 取樣器,用於(yu) 碳勢控製
正確操作Lambda探頭測量爐內(nei) 氣氛,很重要的一點在於(yu) 氣體(ti) 取樣器的結構。取樣器必須能夠跟氧探頭一樣安裝而無需改孔。陶瓷管將爐內(nei) 氣體(ti) 導至爐壁外部。在取樣器的鋼保護管上顯示內(nei) 部陶瓷管的截止部位。鋼保護管的剩餘(yu) 部分可以作為(wei) 冷卻區。通過此構造,可以實現:
a),熱反應氣體(ti) 不與(yu) 鋼管部分直接接觸,溫度下降,並且避免了煙灰汙染。
b),由於(yu) 氣體(ti) 在到達冷卻區之前的充分熱絕緣,從(cong) 而可以阻止另一種平衡狀態中的逆反應。
c),由於(yu) 陶瓷管寬度減小,氣體(ti) 流速相應增大
d),氣體(ti) 在到達爐壁外緣為(wei) 止都是熱絕緣的
e),氣體(ti) 到達爐壁外緣之後,由於(yu) 寬度增加,流速大大降低。
f),當氣體(ti) 進入冷卻區之後會(hui) 發生快速冷卻及再凝現象。因此要阻止平衡狀態下的逆反應。氣體(ti) 的另一種平衡狀態會(hui) 導致碳勢計算不正確,並且會(hui) 導致煙灰汙染取樣管。
L-probe測量是在爐外進行的。大部分L-probe的內(nei) 部溫度大約在550…600°C。這些溫度仍然很高,足以保持氧化鋯的氧離子活動。而對於(yu) 氧探頭來說,較低的溫度就夠了。這是由於(yu) 構造不同所導致的。由於(yu) 測量室內(nei) 溫度已非常低,被測氣體(ti) 不可能再出現逆反應。
Lambda探頭的優(you) 勢
無論是O2探頭還是Lambda探頭,都適用於(yu) 滲碳工藝控製。不過,相對於(yu) O2探頭來說,Lambda探頭有其獨到的優(you) 勢:
a),Lamdba探頭非常耐用,而且適用於(yu) 某些溫度變化或者機械衝(chong) 擊比較大的操作環境,比如汽車中的排氣管。Lambda探頭*不受機械震動的影響。因此,相比O2探頭來說,它可以安裝在更靠近風扇的地方。
b),由於(yu) Lambda探頭安裝在爐外,因此即使在熱處理過程中也可以很便捷的進行更換。
c),相比O2探頭來說,Lambda探頭可以用於(yu) 1600°C以上高溫的熱處理工藝而且不會(hui) 出現信號偏差。不過,對於(yu) 此種高溫測量,冷卻區必須正確設計。
d),基於(yu) 氣體(ti) 取樣器的設計,lambda探頭不與(yu) 爐內(nei) 高溫直接接觸。另外,相比O2探頭,Lambda探頭的陶瓷不受爐內(nei) 溫度變化的影響。這就是Lambda探頭具有比O2探頭更長的使用壽命的根本原因。通過過去二十年在滲碳工藝中采用Lambda探頭的經驗,我們(men) 可以說,在同等工藝條件下,Lambda探頭的使用壽命是O2探頭的兩(liang) 倍。在某些環境中,如果O2探頭直接接觸高熱應力,那麽(me) Lambda探頭的使用壽命甚至是O2探頭的好幾倍。
Lambda探頭還有一個(ge) 顯著的優(you) 勢就是其價(jia) 格。如果使用Lambda探頭替換O2探頭,那麽(me) 初次采購Lambda探頭的價(jia) 格稍微高於(yu) O2探頭,現有的控製器不能通過Lambda探頭信號計算碳勢。因此需要另外購買(mai) 測量變送器或者NTV44P電源。但是,由於(yu) Lambda探頭具有更長的使用壽命,而且之後更換或者維修的成本都相對低得多。
總結
過去二十年使用Lambda探頭的經驗表明這種探頭在碳控方麵表現。當然,O2探頭也是一樣。兩(liang) 種探頭各有千秋。Lambda探頭的顯著優(you) 勢表現在價(jia) 格更低,使用壽命更長。因此,使用Lamdba探頭可以在保持品質不變的前提下節省成本。
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